

Illinois urbana-champaign vs Rensselaer polytechnic institute — confronto tra università negli USA
DATI CHIAVE
STATISTICHE A CONFRONTO
PARERE DELL'ESPERTO
Illinois urbana-champaign è la più selettiva delle due (42.4% vs 63.5% di ammissioni). Illinois urbana-champaign è posizionata più in alto nella classifica mondiale di ricerca ARWU (#55 vs #501-600). I laureati di Rensselaer polytechnic institute hanno una mediana di stipendio più alta a 10 anni dagli studi ($102K vs $81K). Illinois urbana-champaign ha una retta di listino più bassa ($35,124 vs $64,081 all'anno).
Entrambe le università hanno dati completi e confrontabili nel canonical — la scelta dovrebbe basarsi sull'affinità (vita del campus, corso di laurea, pacchetto aiuti) insieme alle differenze evidenziate nei numeri qui sotto.
Scegli Illinois urbana-champaign per: posizione più alta nella classifica mondiale, maggiore selettività, tasso di laurea più alto.
Scegli Rensselaer polytechnic institute per: stipendi più alti per i laureati, maggiore ritenzione, pacchetto di aiuti più consistente.
Analisi College Council Atlas · IPEDS / College Scorecard CDS 2024-25, ARWU 2024.
IN NUMERI
Illinois urbana-champaign è più selettiva (42.4% vs 63.5% di ammissioni); Rensselaer polytechnic institute ha una mediana SAT più alta (1456 vs 1440).
I laureati di Rensselaer polytechnic institute hanno una mediana di stipendio più alta a 10 anni dagli studi ($102K vs $81K); Illinois urbana-champaign ha un tasso di laurea a 6 anni più alto (85.1% vs 83.6%).
Illinois urbana-champaign ha una retta di listino più bassa ($35,124 vs $64,081); Rensselaer polytechnic institute offre un pacchetto di aiuti medio più consistente ($76,097 vs $23,217).
PANORAMICA DEL VALORE
TABELLA DATI COMPLETA
| Indicatore | Illinois urbana-champaign | Rensselaer polytechnic institute |
|---|---|---|
| Classifica mondiale · ARWU | #55 | #501-600 |
| Classifica · THE | #46 | — |
| Tasso di ammissione | 42.4% | 63.5% |
| Tasso di yield | 28.8% | 39.7% |
| Mediana SAT | 1440 | 1456 |
| GPA medio | — | — |
| Numero di domande | 73,742 | 15,819 |
| Studenti internazionali | 25% | 19% |
| Mediana stipendi · 10 anni | $81K | $102K |
| Stipendio medio · 10 anni | $71K | $86K |
| Stipendi top 25% · 10 anni | $117K | $137K |
| Tasso di laurea | 85.1% | 83.6% |
| Tasso di ritenzione | 94.8% | 98% |
| Mediana debito | $19,500 | $23,750 |
| Retta · anno | $35,124 | $64,081 |
| Pacchetto aiuti medio | $23,217 | $76,097 |
| % del bisogno coperto | 0.8% | 100% |
| Debito medio del laureato | $22,395 | $29,149 |
| Tassa di iscrizione alla domanda | $50 | $75 |
| Numero di studenti | 59,238 | 6,761 |
DOMANDE FREQUENTI
È più difficile entrare a Illinois urbana-champaign o a Rensselaer polytechnic institute?
È più difficile entrare a Illinois urbana-champaign. Illinois urbana-champaign ammette il 42.4% dei candidati, mentre Rensselaer polytechnic institute il 63.5%.
Guadagnano di più i laureati di Illinois urbana-champaign o di Rensselaer polytechnic institute?
I laureati di Rensselaer polytechnic institute guadagnano di più: la mediana a 10 anni dagli studi è $102K vs $81K.
Quanto costa la retta a Illinois urbana-champaign rispetto a Rensselaer polytechnic institute?
La retta di listino è $35,124 all'anno per Illinois urbana-champaign e $64,081 all'anno per Rensselaer polytechnic institute.
Che punteggio SAT serve per Illinois urbana-champaign o Rensselaer polytechnic institute?
La mediana SAT degli ammessi è 1440 per Illinois urbana-champaign e 1456 per Rensselaer polytechnic institute; punta a questi valori o superiori per essere competitivo.
Quale università è più in alto in classifica — Illinois urbana-champaign o Rensselaer polytechnic institute?
Illinois urbana-champaign è più in alto nella classifica mondiale ARWU: #55 per Illinois urbana-champaign vs #501-600 per Rensselaer polytechnic institute.
Quale università offre maggiori aiuti finanziari — Illinois urbana-champaign o Rensselaer polytechnic institute?
Il pacchetto di aiuti medio è $23,217 per Illinois urbana-champaign e $76,097 per Rensselaer polytechnic institute.
Harvard
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