

Rensselaer polytechnic institute vs Illinois urbana-champaign — confronto tra università negli USA
DATI CHIAVE
STATISTICHE A CONFRONTO
PARERE DELL'ESPERTO
Illinois urbana-champaign è la più selettiva delle due (42.4% vs 63.5% di ammissioni). Illinois urbana-champaign è posizionata più in alto nella classifica mondiale di ricerca ARWU (#501-600 vs #55). I laureati di Rensselaer polytechnic institute hanno una mediana di stipendio più alta a 10 anni dagli studi ($102K vs $81K). Illinois urbana-champaign ha una retta di listino più bassa ($35,124 vs $64,081 all'anno).
Entrambe le università hanno dati completi e confrontabili nel canonical — la scelta dovrebbe basarsi sull'affinità (vita del campus, corso di laurea, pacchetto aiuti) insieme alle differenze evidenziate nei numeri qui sotto.
Scegli Rensselaer polytechnic institute per: stipendi più alti per i laureati, maggiore ritenzione, pacchetto di aiuti più consistente.
Scegli Illinois urbana-champaign per: posizione più alta nella classifica mondiale, maggiore selettività, tasso di laurea più alto.
Analisi College Council Atlas · IPEDS / College Scorecard CDS 2024-25, ARWU 2024.
IN NUMERI
Illinois urbana-champaign è più selettiva (42.4% vs 63.5% di ammissioni); Rensselaer polytechnic institute ha una mediana SAT più alta (1456 vs 1440).
I laureati di Rensselaer polytechnic institute hanno una mediana di stipendio più alta a 10 anni dagli studi ($102K vs $81K); Illinois urbana-champaign ha un tasso di laurea a 6 anni più alto (85.1% vs 83.6%).
Illinois urbana-champaign ha una retta di listino più bassa ($35,124 vs $64,081); Rensselaer polytechnic institute offre un pacchetto di aiuti medio più consistente ($76,097 vs $23,217).
PANORAMICA DEL VALORE
TABELLA DATI COMPLETA
| Indicatore | Rensselaer polytechnic institute | Illinois urbana-champaign |
|---|---|---|
| Classifica mondiale · ARWU | #501-600 | #55 |
| Classifica · THE | — | #46 |
| Tasso di ammissione | 63.5% | 42.4% |
| Tasso di yield | 39.7% | 28.8% |
| Mediana SAT | 1456 | 1440 |
| GPA medio | — | — |
| Numero di domande | 15,819 | 73,742 |
| Studenti internazionali | 19% | 25% |
| Mediana stipendi · 10 anni | $102K | $81K |
| Stipendio medio · 10 anni | $86K | $71K |
| Stipendi top 25% · 10 anni | $137K | $117K |
| Tasso di laurea | 83.6% | 85.1% |
| Tasso di ritenzione | 98% | 94.8% |
| Mediana debito | $23,750 | $19,500 |
| Retta · anno | $64,081 | $35,124 |
| Pacchetto aiuti medio | $76,097 | $23,217 |
| % del bisogno coperto | 100% | 0.8% |
| Debito medio del laureato | $29,149 | $22,395 |
| Tassa di iscrizione alla domanda | $75 | $50 |
| Numero di studenti | 6,761 | 59,238 |
DOMANDE FREQUENTI
È più difficile entrare a Rensselaer polytechnic institute o a Illinois urbana-champaign?
È più difficile entrare a Illinois urbana-champaign. Rensselaer polytechnic institute ammette il 63.5% dei candidati, mentre Illinois urbana-champaign il 42.4%.
Guadagnano di più i laureati di Rensselaer polytechnic institute o di Illinois urbana-champaign?
I laureati di Rensselaer polytechnic institute guadagnano di più: la mediana a 10 anni dagli studi è $102K vs $81K.
Quanto costa la retta a Rensselaer polytechnic institute rispetto a Illinois urbana-champaign?
La retta di listino è $64,081 all'anno per Rensselaer polytechnic institute e $35,124 all'anno per Illinois urbana-champaign.
Che punteggio SAT serve per Rensselaer polytechnic institute o Illinois urbana-champaign?
La mediana SAT degli ammessi è 1456 per Rensselaer polytechnic institute e 1440 per Illinois urbana-champaign; punta a questi valori o superiori per essere competitivo.
Quale università è più in alto in classifica — Rensselaer polytechnic institute o Illinois urbana-champaign?
Illinois urbana-champaign è più in alto nella classifica mondiale ARWU: #501-600 per Rensselaer polytechnic institute vs #55 per Illinois urbana-champaign.
Quale università offre maggiori aiuti finanziari — Rensselaer polytechnic institute o Illinois urbana-champaign?
Il pacchetto di aiuti medio è $76,097 per Rensselaer polytechnic institute e $23,217 per Illinois urbana-champaign.
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